- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/26 - Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]; Substrats pour PSM; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/26
Brevets de cette classe: 327
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Hoya Corporation | 2822 |
64 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
54 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
40 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
13 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
12 |
| S&S Tech Co., Ltd. | 26 |
10 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
9 |
| SK Hynix Inc. | 11030 |
9 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
6 |
| Beijing BOE Display Technology Co., Ltd. | 2497 |
6 |
| Agc, Inc. | 4029 |
6 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
5 |
| ASML Netherlands B.V. | 6816 |
4 |
| KLA-Tencor Corporation | 2574 |
4 |
| National Research Council of Canada | 1545 |
4 |
| Toppan Photomask Co., Ltd. | 56 |
4 |
| Nikon Corporation | 7162 |
3 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 8635 |
3 |
| Beijing BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 3779 |
3 |
| ULVAC Coating Corporation | 17 |
3 |
| Autres propriétaires | 65 |